אבקת קוטל טונגסטן

אבקת קוטל טונגסטן תיאור

סיליקיד טונגסטן (WSi2) הוא תרכובת אנאורגנית, סיליקיד של טונגסטן. זהו חומר קרמי מוליך חשמלי.

אבקת סיליקיד טונגסטן זמינה באופן מיידי ברוב הנפחים. ניתן לשקול צורות טוהר גבוה במיוחד, טוהר גבוה, תת-מיקרון וננו-אבקה.

סיליקיד טונגסטן משמש במיקרואלקטרוניקה כחומר מגע, עם התנגדות 60-80 μΩ ס"מ; הוא נוצר ב-1000 מעלות. הוא משמש לעתים קרובות כשאנט מעל קווי פוליסיליקון כדי להגביר את המוליכות שלהם ולהגביר את מהירות האות. ניתן להכין שכבות סיליקיד טונגסטן על ידי שקיעת אדים כימית, למשל באמצעות מונוסילאן או דיכלורוסילאן עם טונגסטן הקספלואוריד כגזי מקור. הסרט שהופקד אינו סטוכיומטרי, ודורש חישול כדי להמיר לצורה סטוכיומטרית מוליכה יותר. סיליקיד טונגסטן הוא תחליף לסרטי טונגסטן קודמים. סיליקיד טונגסטן משמש גם כשכבת מחסום בין סיליקון למתכות אחרות, למשל טונגסטן.

סיליקיד טונגסטן הוא גם בעל ערך לשימוש במערכות מיקרו-אלקטרו-מכניות, שם הוא מיושם בעיקר כסרטים דקים לייצור מעגלים בקנה מידה מיקרו. למטרות כאלה, סרטים של סיליקיד טונגסטן ניתן לחרוט בפלזמה באמצעות גז חנקן טריפלואוריד למשל.

WSi2 מתפקד היטב ביישומים כציפויים עמידים לחמצון. בפרט, בדומה ל-Molybdenum disilicid, MoSi2, הפליטה הגבוהה של טונגסטן דיסי-קיל הופכת את החומר הזה לאטרקטיבי לקירור קרינתי בטמפרטורה גבוהה, עם השלכות על מגני חום.

יישומי אבקת קוטל טונגסטן ותעשיות קשורות

● חומר מגע במיקרואלקטרוניקה

● עקף מעל קווי פוליסיליקון כדי להגביר את המוליכות שלהם ולהגביר את מהירות האות

● שקיעת אדים כימית

● תחליף לסרטי טונגסטן קודמים

● שכבת מחסום בין סיליקון למתכות אחרות (למשל טונגסטן)

● מערכות מיקרו-אלקטרו-מכאניות

● ציפויים עמידים לחמצון

● סרטים חרוטים בפלזמה

● מחקר ומעבדה

● מדעי החומר

● תצהיר סרט דק

● ציפוי

מזהים כימיים

תכונות קוטל טונגסטן (תיאורטי)

תגיות פופולריות: אבקת טונגסטן דיסילידי, סין, ספקים, לקנות, למכירה, תוצרת סין